解释为什么干氧工艺适用于大规模集成电路的氧化工艺

来源:学生作业学帮网 编辑:学帮网 时间:2024/05/18 10:21:16

解释为什么干氧工艺适用于大规模集成电路的氧化工艺

大规模集成电路的工艺对氧化层的质量要求比较高.干氧工艺产生的氧化层生长速率低,但是很致密.可以生长出高质量的氧化层.