磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化

来源:学生作业学帮网 编辑:学帮网 时间:2024/04/28 19:27:35

磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟
工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化二铟的因素有哪些方面.

氧流量,控制靶中毒.
沉积膜时的时间,
基材的清洁问题,

磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化 谁能告诉我东营哪里有卖高纯气体(高纯氮气、高纯氦气、高纯氩气、普通氮气)的? 高纯气体6.0什么意思? 作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉.作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉,而且调节溅射电压时,电压不变,电流却急剧增大,请问是有什么原因引起?该如何解决?(氩气调节至400sccm) 高纯气体氦气检漏操作步骤 高纯气体中THC杂质指什么 高纯CO2杂质气体?高纯CO2中会有什么杂质气体?CH4有吗? 磁控溅射镀膜中 氧气 氩气 氮气 分别起什么主要作用? 在常温下液态气体换算成气态的计算方法,分别是高纯氩,高纯氮,高纯氦,比如1L液态氩换算成气态为?L 磁控溅射(太阳能)单靶机,怎样确定电流大小 急,高纯气体运输什么时候选择高压气体形式运输,什么时候选择液化运输 no conductive coating (绝缘 镀膜)就是磁控溅射镀膜的工作原理,谢谢即NC VM 的工艺,和靶材的材料,所用的气体,和NCVM磁控薄膜沉积原理 一般什么单位要用高纯气体!我计划做高纯气体的生意但是不知道业务要从何下手 不太知道什么单位要用高纯气体? 高纯氮气里面主要有哪些微量的杂质气体?太阳能公司对于5N高纯氮气里面杂质气体含量有哪些要求? 哪里可以买到电子气体,高纯氟碳类气体,像四氟化碳,八氟环丁烷 等电子气体? 磁控溅射中靶中毒除了减少反应气体是不是可以增加氩气流量来避免中毒现象. 什么是高纯气,高纯氢气,高纯氮气? 直流磁控溅射 射频磁控溅射 不同的原因